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安森美半导体推出针对安捷伦科技ADS软件的High-Q™ IPD工艺设计套件

2012/07/25ON Semiconductor  プロセス/実装

完整的从前到后工序工艺设计套件(PDK)

使两家公司的客户能充分利用业界最全面射频及微波设计平台的优势

 

2012年6月20日 – 应用于高能效电子产品的首要高性能硅方案供应商安森美半导体(ON Semiconductor,美国纳斯达克上市代号:ONNN)宣布提供针对公司High-Q™集成无源器件(IPD)工艺的完整从前到后工序工艺设计套件(PDK)。这PDK开发是为了配合安捷伦科技的先进设计系统(ADS) 2011电子设计辅助(EDA)软件一起使用,使安森美半导体及安捷伦科技的客户能够充分利用业界最全面射频(RF)及微波设计平台的优势。
安森美半导体的High-Q™ IPD工艺技术提供高电阻率硅铜(copper on high resistivity silicon)平台,非常适合用于生产无源器件,如用于便携、无线及射频应用的平衡-不平衡转换器、滤波器、耦合器、双工器及匹配网络。IPD技术用于安森美半导体在美国俄勒冈州Gresham的世界一流200 mm晶圆制造厂制造铜电感、精密电容及精密电阻。IPD为射频系统级封装提供高性价比方案。安森美半导体还为工程原型开发提供经济合算的晶圆厂往返服务。此外,安森美半导体还提供多种应用定制规格的设计服务。
安森美半导体定制晶圆代工及IPD分部高级总监Rick Whitcomb说:“IPD工艺在射频应用极受垂青,我们看到客户极想要这工艺扩展至配合安捷伦的ADS平台。我们为客户提供包括布线和集成EM支援在内的完整ADS设计套件,他们便能利用安捷伦在射频及微波设计领域经证明的专知之优势。”
为客户提供的全功能ADS设计套件可用于布线、仿真及验证,支持电路图驱使型布线生成、布线与电路图对比检验、集成3D平面电磁及3D-FEM仿真器。
安捷伦科技EEsof EDA晶圆制造项目经理Juergen Hartung说:“ADS与IPD工艺完美匹配,ADS与安森美半导体IPD设计套件的组合使相互的客户能够获得高效的集成设计平台。ADS不仅为IPD裸片本身提供完整的从前到后工序应用平台,还直接能设计出包含IPD的完整射频模块。”
安森美半导体推出针对安捷伦科技 ADS 软件的 High-Q™ IPD 工艺设计套件
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关于安森美半导体
安森美半导体(ON Semiconductor,美国纳斯达克上市代号:ONNN)是应用于高能效电子产品的首要高性能硅方案供应商。公司的产品系列包括电源和信号管理、逻辑、分立及定制器件,帮助客户解决他们在汽车、通信、计算机、消费电子、工业、LED照明、医疗、军事/航空及电源应用的独特设计挑战,既快速又符合高性价比。公司在北美、欧洲和亚太地区之关键市场运营包括制造厂、销售办事处及设计中心在内的世界一流、增值型供应链和网络。更多信息请访问http://www.onsemi.cn
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安森美半导体和安森美半导体图标是 Semiconductor Components Industries, LLC的注册商标。所有本文中出现的其它品牌和产品名称分别为其相应持有人的注册商标或商标。虽然公司在本新闻稿提及其网站,但此稿并不包含其网站中有关的信息。


企業HP:
http://www.onsemi.cn

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